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AKONIS

SIMS completamente automatizado para la fabricación de semiconductores de alto volumen

La herramienta AKONIS SIMS llena un vacío crítico en los procesos de fabricación de semiconductores al proporcionar una detección de alto rendimiento y alta precisión para perfiles de implantes, análisis de composición y datos de interfaz permitiendo la fabricación de semiconductores de alto volumen. AKONIS ofrece un nivel muy alto de automatización para garantizar la repetibilidad entre las herramientas para el control de procesos a nivel de fabricación y la compatibilidad de herramienta a herramienta.

  • AKONIS: SIMS Excelencia en la fabricación. +


    Complementando el IMS Wf/SC Ultra, así como el SIMS 4550 (SIMS cuádruple) utilizado para apoyar a la industria de semiconductores a través de laboratorios de caracterización, AKONIS, con automatización completa de la configuración de instrumentos y las rutinas de adquisición, permite un análisis rápido dentro de la fábrica sin comprometer la sensibilidad analítica. AKONIS se beneficia del desarrollo reciente de la tecnología de columna iónica de energía de impacto EXtremadamente baja (EXLIE) (<150 eV), junto con un sistema completo de gestión de discos que incluye una etapa de alta resolución para tomar mediciones en almohadillas de hasta 20 μm.

    El capacitador de alto rendimiento en N5 y más allá

    Composición de alta resolución y perfil rápido de profundidad dopante de pilas multicapa SiGe y SiP
    Inigualable en los límites de detección de almohadillas de hasta 20 μm
    Más del 97 % de reducción de tiempo para retroalimentar datos a la línea de proceso
    Medición completa de disco estampado y de plantilla
    Motor de reconocimiento de patrones junto con una etapa interferométrica de alta resolución para una precisión de posición <2 μm
    Creación intuitiva de recetas basada en una base de datos de materiales única
    Certificación SEMI (S2/S8, E4, E5, E39, E84...)
    Bajo costo de propiedad

  • View Webinars +

    • Dynamic SIMS for Semiconductors

      jueves, septiembre 16, 2021

      A review of a broad array of IC applications with Dynamic SIMS, from deep to ultra-shallow implant depth profiling in Si-based semiconductors to compositional analysis of thin multilayers in patterned wafer pads, optoelectronics, 2D and non-planar 3D structures. Speaker: Pawel Michałowski, expert-user of CAMECA SC Ultra SIMS at Łukasiewicz Research Network – Institute of Microelectronics and Photonics, Poland
      ↓ Duration : 20 minutes
      Click here to view

  • Documentación +

  • Publicaciones científicas +


    A continuación encontrará una selección de artículos de investigación realizados por usuarios de CAMECA AKONIS
    Le invitamos a que nos envíe las referencias, pdf y suplementos que le falten.
    Envíe un correo electrónico a cameca.info@ametek.com

    Etching monitoring of advanced forksheet devices using AKONIS SIMS tool.     A-S. Robbes, O. Dulac, K. Soulard, M. Adier, S. Choi, D. Jacobson, A. Merkulov, R. Tilmann, P.A.W. van der Heide and A. Franquet. ISTFA Proceedings (2024)
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    AKONIS—SIMS Excellence Brought To The Fab. AS. Robbes; O. Dulac; K. Soulard; R. Liu; S. Choi; B. Salle; D. Jacobson. (2022). Conference Proceedings. Paper No: istfa2022p0396, pp. 396-397; 2 pages
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  • Video +

    • Monitoreo de procesos de grabado en un entorno de Fabricación de Alto Volumen con AKONIS SIMS
      AKONIS Manufacturing and HVM https://youtu.be/0ONRoxzHqbo?si=divsQ64tPzP2dEIP

      La herramienta AKONIS SIMS mide con precisión las concentraciones elementales en novedosas estructuras 3D de hojas de horquilla para diferentes velocidades de grabado, superando a otros sistemas analíticos en cuanto a sensibilidad en un entorno de fabricación de alto volumen.

    • Monitorización de implantes superficiales de arsénico con AKONIS
      AKONIS https://youtu.be/VuhyPS8hFiE

      La herramienta SIMS automatizada de AKONIS supera a otros sistemas analíticos para el control de la uniformidad de la dosis en las instalaciones del cliente. En este vídeo, la herramienta midió una falta de uniformidad del 1,2 % en implantes poco profundos de arsénico sobre obleas completas.

    • Metrología SiP para producción lógica n-mos con la herramienta AKONIS SIMS
      AKONIS-ep2 https://youtu.be/lNXON8-0Mxo

      Gracias a su exclusiva tecnología de detector único, AKONIS realiza un seguimiento de la estabilidad a largo plazo de implantes de fósforo poco profundos en silicio.

    • SPC de Logic p-mos con herramienta AKONIS SIMS

      Gracias a una tecnología probada de detector único, la herramienta SIMS automatizada de AKONIS garantiza una estabilidad inigualable a largo plazo en el monitoreo de boro en SiGe en el sitio del cliente.

    • AKONIS, SIMS Excellence llevada a la fábrica
      AKONIS

      Una herramienta de metrología de semiconductores totalmente automatizada que permite monitorear la dosis de implantes en chips lógicos avanzados, controlar los niveles de dopaje en la fuente y el drenaje del transistor, analizar la composición dentro de almohadillas de prueba de 20 µm en obleas de silicio estampadas, ¡y más!